铬靶，纯度从99.3%到99.9%。
采用先进的热等静压工艺加工，部分旋转靶采用等离子喷涂工艺加工而成。
可加工成圆饼靶，平面靶，旋转靶（圆柱靶）等多种形状。
用于光学镀膜，数据存储镀膜，装饰性镀膜，半导体，EMI，太阳能光伏镀膜，功能性硬膜等多种行业。
备用靶材库存（φ100*40mm,φ95*45mm,φ60*45 mm），交货迅速。
也可提供铬靶帮定服务。
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